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從微米到納米:晶圓缺陷光學(xué)檢測(cè)設(shè)備如何推開(kāi)亞波長(zhǎng)極限之門(mén)
從微米到納米:晶圓缺陷光學(xué)檢測(cè)設(shè)備如何推開(kāi)亞波長(zhǎng)極限之門(mén)

當(dāng)先進(jìn)制程逼近3nm節(jié)點(diǎn),芯片上的致命瑕疵往往只有十幾個(gè)納米大小——遠(yuǎn)小于可見(jiàn)光波長(zhǎng),傳統(tǒng)光學(xué)檢測(cè)的“視力”已近物理天花板。但這并非終點(diǎn):新一代晶圓缺陷光學(xué)檢測(cè)設(shè)備正通過(guò)深紫外(DUV)光源、明暗場(chǎng)融合與計(jì)算成像的組合拳,硬生生將靈敏度壓入十納米級(jí)。這不是單純放大圖像,而是重構(gòu)“...

2026 4-17
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